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新领域,芯技术 | SEMICON展台N2馆 2109欢迎您!

2020-03-12

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半导体专(zhuan)用点胶封装设备


专为半(ban)导(dao)体行(xing)业应用而(er)开发(fa)的(de)全自动在线式点(dian)胶系统,适用于半(ban)导(dao)体行(xing)业的(de)各种点(dian)胶工(gong)艺(yi)应用。




-  Flip chip underfill

-  Dome coating

-  Dam&fill

-  Glob top

-  No-flow underfill

-  Solder paste

-  Silver paste

-  Flux

-  TIM

-  Wafer underfill)

-  Wire encapsulation



01.

双(shuang)驱动态双(shuang)头点胶系统

• 龙门双驱  • 快 • 精 • 高(gao)


快(kuai)   最大加速度可达1.5g,是传统点胶设备的1.5倍以上
精   定位精度±0.02mm以下,是传统点胶设备的2倍以上

   双头同步高速点胶,效率是传统点胶设备的1.8倍以上


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•  适用于凹凸(tu)不(bu)(bu)一/角度不(bu)(bu)一的拼(pin)板产品同步点胶;

•  双阀变频同步点胶;  



02.

在线式百级无尘高速点胶系(xi)统

• 百级无尘  • 全自动上下料


该系统为各种复杂的半导体芯片封装精密点胶应用而设计,采用原装进口直线电机,精密导轨,电控元件,气动部件,运动线缆,均按行业百级无尘标准设计


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•  Max 加速(su)度可达(da)1.5g,是传统机型的1.5倍以上(shang)

•   异(yi)步(bu)双阀,灵活拓展各类工艺



03.

在线式半导体(ti)行(xing)业喷射点胶系统

 • 高柔性  • 高精度  • 高稳定性  • 高产能


直线电机搭配微米(mi)分辨率光柵尺闭(bi)环控制,该系统为(wei)半导体(ti)芯片封装的(de)精密点胶(jiao)应用而(er)设计,点胶区域达到350mmx500mm


三(san)段式(shi) 真空吸附加热(re)


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半导体专(zhuan)用清洗设(she)备


大气式等离子表面处理系统是(shi)专为半导体、电子(zi)、SMT、光(guang)学(xue)、医疗(liao)等(deng)各个领域应用而(er)开(kai)发(fa)等(deng)离子(zi)处理(li)系统。


高效的(de)、安(an)全友好(hao)的(de)、多制程(cheng)的(de)等离子创新(xin)技术。


该系统是通过(guo)消除(chu)传统真空式等离子(zi)体处(chu)理的等待时间,带来巨大产能和(he)整体良率提升,同时能确保安全(quan)地处(chu)理所有敏感性电(dian)子(zi)元(yuan)件。


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100mm宽等离子(zi)在线式批量处(chu)理

相比传(chuan)统方(fang)式效(xiao)率提升(sheng)2-5倍

成本降低30%以上


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100%中性等离子
对敏感电子元器件
不产生静电.火花.电弧.粉尘.高温.水波纹(wen).紫外线(xian)
不会对产品带来任何伤害
更为安全友好。

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多机型(xing)配(pei)置(zhi)选(xuan)择

01.

拓展型设(she)备

 • 高(gao)灵(ling)活性  • 高兼容性  小巧型平台 


氩气等离子处理 Wafer,Die ,Lead frame引线框架, PCB板,显示屏,LED,医疗器材等,清洗和活化产品表面,增加润湿性和改善表面特性。


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02.

Lead Frame工艺专属设备

 • 高速  • 高柔(rou)性


全自动 Lead frame专用Plasma清洗设(she)备,最(zui)大UPH1800且同(tong)时(shi)兼容不(bu)同(tong)尺寸产品,氩气等离子处理,去除 Lead frame表面氧化物。


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同期,我们还对(dui)

半导体芯片封装点胶

Wafer&芯片封装(zhuang)等离子清洗

进行产品及工艺分享

分享时(shi)间(jian):

3月17-18日

每天2场




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玩出新花样(yang)

超(chao)级大奖带回家


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END



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SHENZHEN AXXONAUTOMATION CO., LTD.

深圳市轴(zhou)心自控技(ji)术有(you)限(xian)公司

中国深圳市(shi)龙华新(xin)区观澜桂月路334号硅(gui)谷动力(li)汽车电(dian)子创业园(yuan)A14栋

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